Προσαρμοσμένο δίσκο SiC:CVD SiC SSiC επίπεδη αυλακωμένη υψηλή θερμική αγωγιμότητα χαμηλός συντελεστής θερμικής διαστολής

Πληροφορίες Προϊόντος

      Ένα δίσκο πυριτίου καρβιδίου (SiC) είναι ένας υψηλής απόδοσης, ακριβείας κεραμικός φορέας σχεδιασμένος για επεξεργασία ημιαγωγών δίσκων, θερμική επεξεργασία υψηλής θερμοκρασίας, συστήματα CVD/PECVD, φούρνους κενού και άλλα απαιτητικά βιομηχανικά περιβάλλοντα.

Οι κύριες λειτουργίες του περιλαμβάνουν:

• Υποστήριξη δίσκων και εξαρτημάτων επεξεργασίας
• Τοποθέτηση δίσκων κατά την επεξεργασία
• Μεταφορά και χειρισμός δίσκων
• Υποστήριξη εξαρτημάτων κατά τη διάρκεια διεργασιών υψηλής θερμοκρασίας
• Ως ακριβείας κεραμικό εξάρτημα σε εξοπλισμό ημιαγωγών

      Το δημόσια διαθέσιμο προϊόν μας δίσκου SiC έχει σχεδιαστεί για επεξεργασία ημιαγωγών δίσκων, συστήματα CVD/PECVD, φούρνους κενού και βιομηχανικές εφαρμογές υψηλής θερμοκρασίας. Ανάλογα με την εφαρμογή, μπορεί να χρησιμοποιηθεί SiC CVD υψηλής καθαρότητας ή SSiC.   





Διαδικασία Κατασκευής
 

      Η πραγματική διαδικασία κατασκευής ποικίλλει ανάλογα με το σύστημα υλικού SiC και τις απαιτήσεις της εφαρμογής. Μια τυπική διαδρομή κατασκευής περιλαμβάνει:
 

1. Επιλογή & Προετοιμασία Πρώτης Ύλης
      Επιλέγεται SiC CVD, SSiC ή άλλο κατάλληλο υλικό SiC σύμφωνα με τις απαιτήσεις καθαρότητας και εφαρμογής.

↓

2. Σχηματισμός / Προετοιμασία Προπλάσματος

↓

3. Πύρωση / Πύκνωση

↓

4. Μηχανουργική Κατεργασία Ακριβείας
      Χρησιμοποιείται μηχανουργική κατεργασία CNC και λείανση για την επίτευξη των απαιτούμενων διαστάσεων, οπών στήριξης, αυλακώσεων και δομικών χαρακτηριστικών.

↓

5. Λείανση / Στίλβωση
      Οι λειτουργικές επιφάνειες μπορούν να λειανθούν με ακρίβεια, να λειανθούν ή να στιλβωθούν σύμφωνα με τις απαιτήσεις της εφαρμογής.

↓

6. Καθαρισμός & Επιθεώρηση

↓

7. Προστατευτική Συσκευασία & Αποστολή
      Οι δημόσιες πληροφορίες του προϊόντος μας αναγνωρίζουν τον σχηματισμό, την πύρωση και την ακριβή μηχανουργική κατεργασία CNC ως μέρος της διαδρομής κατασκευής και αναφέρουν επίσης την ακριβή λείανση/στίλβωση ως διαθέσιμες μεθόδους φινιρίσματος.                                       



Βασικά Χαρακτηριστικά

1. Εξαιρετική Σταθερότητα σε Υψηλή Θερμοκρασία
      Οι δίσκοι SiC είναι κατάλληλοι για περιβάλλοντα επεξεργασίας υψηλής θερμοκρασίας και μπορούν να διατηρήσουν δομική σταθερότητα υπό απαιτητικές θερμικές συνθήκες. Τα δημοσιευμένα δεδομένα του προϊόντος σας καθορίζουν θερμοκρασία λειτουργίας ≤1600°C, αν και η πραγματική δυνατότητα θερμοκρασίας εξαρτάται από τη συγκεκριμένη ποιότητα SiC και το περιβάλλον επεξεργασίας.

2. Εξαιρετική Θερμική Αγωγιμότητα
      Το SiC προσφέρει υψηλή θερμική αγωγιμότητα, βοηθώντας στην προώθηση αποτελεσματικής μεταφοράς θερμότητας και πιο ομοιόμορφης κατανομής θερμοκρασίας.     
                                                                                                                       

3. Εξαιρετική Αντοχή σε Θερμικό Σοκ
      Είναι κατάλληλο για εφαρμογές που περιλαμβάνουν επαναλαμβανόμενους κύκλους θέρμανσης και ψύξης.
 

4. Υψηλή Μηχανική Αντοχή
      Τα κεραμικά SiC παρέχουν υψηλή μηχανική αντοχή και ακαμψία, βοηθώντας στη διατήρηση της διαστατικής σταθερότητας κατά τη μακροχρόνια λειτουργία σε υψηλή θερμοκρασία.
 

5. Αντοχή σε Χημικά & Πλάσμα
      Το SiC παρέχει καλή χημική σταθερότητα και αντοχή σε απαιτητικά περιβάλλοντα ημιαγωγών που περιλαμβάνουν διαβρωτικά αέρια και πλάσμα.
 

6. Μηχανουργική Κατεργασία Ακριβείας
      Ο δίσκος μπορεί να κατεργαστεί σύμφωνα με τα σχέδια του πελάτη, συμπεριλαμβανομένων διαστάσεων, αυλακώσεων, οπών και σύνθετων δομών, με λείανση ή στίλβωση διαθέσιμη σύμφωνα με τις απαιτήσεις της εφαρμογής.

 7. Πλήρως Προσαρμόσιμο

• Διάμετρος

• Πάχος

• Αυλακώσεις

• Οπές Στήριξης

• Δομή

• Φινίρισμα Επιφάνειας

      Η δημόσια σελίδα του προϊόντος σας υποστηρίζει ρητά την προσαρμογή OEM/ODM βάσει σχεδίων πελατών ή απαιτήσεων εφαρμογής.


​
Βασικές Προδιαγραφές

      Μπορούμε να επιλέξουμε υλικά με βάση τις απαιτήσεις του πελάτη σχετικά με τη θερμοκρασία, την ατμόσφαιρα, την καθαρότητα και τον έλεγχο μόλυνσης.


Εφαρμογές
1.Κατασκευή Ημιαγωγών:
      Χρησιμοποιείται για υποστήριξη δίσκων, μεταφορά, χειρισμό και επεξεργασία ημιαγωγών σε υψηλή θερμοκρασία.

2.Επεξεργασία CVD / PECVD:
      Κατάλληλο για συστήματα επεξεργασίας CVD και PECVD.

3.Διάχυση, Οξείδωση & Ανόπτηση:
      Χρησιμοποιείται σε διεργασίες διάχυσης δίσκων, οξείδωσης και ανόπτησης σε υψηλή θερμοκρασία.

4.Επεξεργασία RTP / Επιταξιακή
      Εφαρμόζεται σε επιλεγμένα συστήματα επεξεργασίας RTP και επιταξιακής.

5.LED & Οπτοηλεκτρονική
      Οι εφαρμογές περιλαμβάνουν επεξεργασία δίσκων ζαφειριού, συστήματα φορέων επιταξιακής LED και υποστήριξη υποστρωμάτων σε υψηλή θερμοκρασία.

6.Φούρνος Κενού & Θερμικός
      Χρησιμοποιείται ως δίσκοι πύρωσης σε υψηλή θερμοκρασία, φορείς φούρνου κενού και εξαρτήματα θερμικής επεξεργασίας.

7.Μεταλλουργία Σκόνης & Προηγμένα Υλικά
      Πέρα από τις εφαρμογές ημιαγωγών, οι δίσκοι SiC μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν στη μεταλλουργία σκόνης, την πύρωση προηγμένων κεραμικών και τη θερμική επεξεργασία υλικών μπαταριών.

Συχνές Ερωτήσεις
Ε1. Για τι χρησιμοποιείται ένας δίσκος SiC;
      Χρησιμοποιείται κυρίως για την υποστήριξη, τη μεταφορά, την τοποθέτηση και την επεξεργασία δίσκων ή άλλων εξαρτημάτων σε διεργασίες ημιαγωγών υψηλής θερμοκρασίας όπως CVD, PECVD, διάχυση, οξείδωση, ανόπτηση και RTP.

Ε2. Μπορεί ο δίσκος SiC να προσαρμοστεί;
      Ναι. Οι διαστάσεις, το πάχος, το σχήμα, η γεωμετρία των αυλακώσεων, οι οπές στήριξης και οι σύνθετες δομές μπορούν να προσαρμοστούν βάσει σχεδίων πελατών και απαιτήσεων εφαρμογής.

Ε3. Ποιες επιλογές υλικών είναι διαθέσιμες;
      Η δημοσιευμένη γκάμα προϊόντων περιλαμβάνει CVD SiC, SSiC και RBSiC. Το κατάλληλο υλικό πρέπει να επιλέγεται σύμφωνα με την καθαρότητα, τη θερμοκρασία λειτουργίας, την ατμόσφαιρα επεξεργασίας, τις απαιτήσεις μόλυνσης και τους στόχους κόστους.

Ε4. Ποιες πληροφορίες απαιτούνται για μια προσφορά;
      Υλικό + Μέγεθος + Πάχος + Δομή + Λεπτομέρειες Αυλάκωσης/Οπής + Φινίρισμα Επιφάνειας + Ανοχή + Ποσότητα + Εφαρμογή + Θερμοκρασία Λειτουργίας
      Για μη τυποποιημένα προϊόντα, συνιστάται έντονα ένα 2D σχέδιο ή 3D αρχείο CAD.

Ε5. Ποια είναι η μέγιστη θερμοκρασία λειτουργίας;
      Η τρέχουσα δημόσια σελίδα προϊόντος δίσκου SiC καθορίζει θερμοκρασία λειτουργίας ≤1600°C. Η πραγματική χρησιμοποιήσιμη θερμοκρασία πρέπει να επιβεβαιωθεί σύμφωνα με την ποιότητα του υλικού και το περιβάλλον επεξεργασίας.

Ε6. Μπορεί η επιφάνεια να στιλβωθεί;
      Ναι. Μπορεί να παρασχεθεί ακριβής λείανση ή στίλβωση σύμφωνα με τις απαιτήσεις της εφαρμογής.

Ε7. Μπορείτε να παρέχετε OEM/ODM;
      Ναι. Η προσαρμογή OEM/ODM υποστηρίζεται βάσει σχεδίων πελατών και απαιτήσεων εφαρμογής.

Ε8. Γιατί να επιλέξετε SiC αντί για χαλαζία ή γραφίτη;
      Το SiC προσφέρει πλεονεκτήματα σε σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας, μηχανική αντοχή, θερμική απόδοση και χημική σταθερότητα. Ωστόσο, η επιλογή υλικού πρέπει πάντα να βασίζεται στην πραγματική διεργασία και όχι στην παραδοχή ότι το SiC είναι καθολικά ανώτερο από τον χαλαζία ή τον γραφίτη.

  


Σχετικά Προϊόντα

                                               

Προσαρμοσμένα Σκάφη SiC Κάθετοι & Οριζόντιοι Φορείς Δίσκων​​



                                              

Κεραμικά Εξαρτήματα Αλουμίνας για Εξοπλισμό Ημιαγωγών