logo
Αρχική Σελίδα ΠροϊόνταΥπόστρωμα SIC

2 ίντσες 4 ίντσες 6 ίντσες 8 ίντσες 5×5 mm 10×10 mm Υποστρώματα 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade

Είμαι Online Chat Now

2 ίντσες 4 ίντσες 6 ίντσες 8 ίντσες 5×5 mm 10×10 mm Υποστρώματα 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade

2inch 4inch 6inch 8inch 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC Substrates 3C-N Type MOS Grade
2inch 4inch 6inch 8inch 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC Substrates 3C-N Type MOS Grade 2inch 4inch 6inch 8inch 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC Substrates 3C-N Type MOS Grade 2inch 4inch 6inch 8inch 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC Substrates 3C-N Type MOS Grade

Μεγάλες Εικόνας :  2 ίντσες 4 ίντσες 6 ίντσες 8 ίντσες 5×5 mm 10×10 mm Υποστρώματα 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade

Λεπτομέρειες:
Τόπος καταγωγής: ΚΙΝΑ
Μάρκα: ZMSH
Πιστοποίηση: rohs
Αριθμό μοντέλου: 3C-N SIC
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
Ποσότητα παραγγελίας min: 10pc
Τιμή: by case
Συσκευασία λεπτομέρειες: προσαρμοσμένο πλαστικό κουτί
Χρόνος παράδοσης: σε 30 ημέρες
Όροι πληρωμής: T/t
Δυνατότητα προσφοράς: 1000pc/μήνα
Λεπτομερής Περιγραφή Προϊόντος
μέγεθος: 2inch, 4inch, 6inch, 5 × 5,10 × 10 Διηλεκτρική σταθερά: 9.7
Επιφανειακή σκληρότητα: HV0.3> 2500 Πυκνότητα: 3.21 g/cm3
Συντελεστής θερμικής διαστολής: 4.5 x 10-6/k Τάση διάσπασης: 5,5 mV/cm
αιτήσεις: Επικοινωνίες, συστήματα ραντάρ
Επισημαίνω:

4H-SiC substrate MOS grade

,

5x5 mm SiC substrate

,

N-type SiC substrate wafer

Επισκόπηση των υποστρωμάτων 3C-SiC

 

 

Υποστρώματα 2 ιντσών 4 ιντσών 6 ιντσών 8 ιντσών 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade

 
 
 

Το υπόστρωμα καρβιδίου του πυριτίου τύπου 3C-N (3C-SiC) είναι ένα υλικό ημιαγωγού ευρείας ζώνης που βασίζεται στην κυβική κρυσταλλική δομή (3C), κατασκευασμένο μέσω υγρής φάσης επιταξίας (LPE) ή φυσικής μεταφοράς ατμών (PVT). Υποστηρίζει τυπικά μεγέθη από 2 ίντσες έως 8 ίντσες, καθώς και προσαρμοσμένες διαστάσεις (π.χ., 5×5 mm, 10×10 mm). Τα βασικά του πλεονεκτήματα περιλαμβάνουν υψηλή κινητικότητα ηλεκτρονίων (1.100 cm²/V·s), ευρεία ζώνη (3.2 eV) και υψηλή θερμική αγωγιμότητα (49 W/m·K), καθιστώντας το ιδανικό για εφαρμογές συσκευών υψηλής συχνότητας, υψηλής θερμοκρασίας και υψηλής ισχύος.

 

 


​​

Βασικά Χαρακτηριστικά των υποστρωμάτων 3C-SiC

 
2 ίντσες 4 ίντσες 6 ίντσες 8 ίντσες 5×5 mm 10×10 mm Υποστρώματα 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade 0

1. Ηλεκτρική Απόδοση

  • Υψηλή Κινητικότητα Ηλεκτρονίων: Σημαντικά ανώτερη από 4H-SiC (900 cm²/V·s), τα υποστρώματα 3C-SiC μειώνουν τις απώλειες αγωγιμότητας στις συσκευές.
  • Χαμηλή Αντίσταση: ≤0.0006 Ω·cm (N-type), υποστρώματα 3C-SiC βελτιστοποιημένα για χαμηλών απωλειών κυκλώματα υψηλής συχνότητας.
  • Ευρεία Ζώνη: Αντέχει τάσεις έως και 10 kV, υποστρώματα 3C-SiC κατάλληλα για σενάρια υψηλής τάσης (π.χ., έξυπνα δίκτυα, EVs).

​​

2. Θερμική & Χημική Σταθερότητα

  • Υψηλή Θερμική Αγωγιμότητα: 3× υψηλότερη απόδοση απαγωγής θερμότητας από το πυρίτιο, υποστρώματα 3C-SiC που λειτουργούν σταθερά από -200°C έως 1.600°C.
  • Αντίσταση στην Ακτινοβολία: Υποστρώματα 3C-SiC ιδανικά για αεροδιαστημικές και πυρηνικές εφαρμογές.

​​

3. Συμβατότητα Διαδικασίας

  • Επιπεδότητα Επιφάνειας: λ/10 @632.8 nm, συμβατό με λιθογραφία και ξηρή χάραξη.
  • Χαμηλή Πυκνότητα Ελαττωμάτων: Πυκνότητα μικροσωλήνων <0.1 cm⁻², ενισχύοντας την απόδοση της συσκευής.

 

 


 

​​Βασικές Εφαρμογές των υποστρωμάτων 3C-SiC

 

2 ίντσες 4 ίντσες 6 ίντσες 8 ίντσες 5×5 mm 10×10 mm Υποστρώματα 4H-SiC 3C-N Type MOS Grade 1

1. Επικοινωνίες 5G & Συσκευές RF

  • Μονάδες RF χιλιοστομετρικών κυμάτων: Τα υποστρώματα 3C-SiC επιτρέπουν συσκευές GaN-on-3C-SiC RF για ζώνες 28 GHz+, βελτιώνοντας την απόδοση του σήματος.
  • Φίλτρα χαμηλών απωλειών: Τα υποστρώματα 3C-SiC μειώνουν την εξασθένηση του σήματος, ενισχύοντας την ευαισθησία του ραντάρ και της επικοινωνίας.

​​

2. Ηλεκτρικά Οχήματα (EVs)

  • Ενσωματωμένοι φορτιστές (OBC): Τα υποστρώματα 3C-SiC μειώνουν την απώλεια ενέργειας κατά 40%, συμβατά με πλατφόρμες γρήγορης φόρτισης 800V.
  • Inverters: Τα υποστρώματα 3C-SiC μειώνουν τις απώλειες ενέργειας κατά 80–90%, επεκτείνοντας την αυτονομία.

 

3. Βιομηχανικά & Ενεργειακά Συστήματα

  • Ηλιακοί μετατροπείς: Βελτιώνει την απόδοση μετατροπής κατά 1–3%, μειώνοντας τον όγκο κατά 40–60% για περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας.
  • Έξυπνα δίκτυα: Ελαχιστοποιεί τις ανάγκες απαγωγής θερμότητας, υποστηρίζοντας τη μετάδοση DC υψηλής τάσης.

 

4. Αεροδιαστημική & Άμυνα

  • Συσκευές ανθεκτικές στην ακτινοβολία: Αντικαθιστά τα εξαρτήματα πυριτίου, επεκτείνοντας τη διάρκεια ζωής των δορυφορικών και πυραυλικών συστημάτων.
  • Ραντάρ υψηλής ισχύος: Τα υποστρώματα 3C-SiC αξιοποιούν τις ιδιότητες χαμηλών απωλειών για βελτιωμένη ακρίβεια ανίχνευσης.

 

 


 

Υποστρώματα 3C-SiC του ΥλικούΤεχνική Παράμετρος

​​Βαθμός Βαθμός Παραγωγής Zero MPD (Z Grade) Τυπικός Βαθμός Παραγωγής (P Grade) Βαθμός Dummy (D Grade)
Διάμετρος 145.5 mm–150.0 mm
Πάχος 350 μm ±25 μm
Προσανατολισμός Wafer Off axis: 2.0°-4.0° προς [1120]± 0.5° για 4H/6H-P, On axis: 〈111〉 ± 0.5° για 3C-N
** Πυκνότητα Micropipe 0 cm⁻²
** Αντίσταση p-type 4H/6H-P ≤0.1 Ω·cm ≤0.3 Ω·cm
n-type 3C-N ≤0.8 mΩ·cm ≤1 mΩ·cm
Προσανατολισμός Primary Flat 4H/6H-P {1010} ±5.0°
3C-N {110} ±5.0°
Μήκος Primary Flat 32.5 mm ±2.0 mm
Μήκος Secondary Flat 18.0 mm ±2.0 mm
Προσανατολισμός Secondary Flat Silicon face up, 90° CW. from Prime flat ±5.0°
Edge Exclusion 3 mm 6 mm
LTV/TIV/Bow/Warp ≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
* Τραχύτητα Γυάλισμα Ra≤1 nm
CMP Ra≤0.2 nm Ra≤0.5 nm
Edge Cracks By High Intensity Light None Cumulative length≤10 mm, single length≤2 mm
* Hex Plates By High Intensity Light Cumulative area≤0.05% Cumulative area≤0.1%
* Polytype Areas By High Intensity Light None Cumulative area≤3%
Visual Carbon Inclusions None Cumulative area≤0.05%
# Silicon Surface Scratches By High Intensity Light None Cumulative length≤1×wafer diameter
Edge Chips High By Intensity Light None permitted≥0.2mm width and depth 5 allowed, ≤1 mm each
Silicon Surface Contamination By High Intensity None
Συσκευασία Κασέτα πολλαπλών wafers ή δοχείο ενός wafer

 

 

Σημειώσεις:

* Τα όρια ελαττωμάτων ισχύουν για ολόκληρη την επιφάνεια του wafer, εκτός από την περιοχή αποκλεισμού άκρων.

* Οι γρατσουνιές θα πρέπει να ελέγχονται μόνο στην πλευρά Si.

 

 


 

Συνιστάται άλλα μοντέλα SiC

 

 

Ε1: Ποιες είναι οι βασικές εφαρμογές των υποστρωμάτων 3C-N-type SiC 2 ιντσών, 4 ιντσών, 6 ιντσών, 8 ιντσών, 5×5mm και 10×10mm;

Α: Χρησιμοποιούνται ευρέως σε μονάδες 5G RF, συστήματα ισχύος EV και συσκευές βιομηχανικής χρήσης υψηλής θερμοκρασίας λόγω της υψηλής κινητικότητας ηλεκτρονίων και της θερμικής τους σταθερότητας.

 

 

Ε2: Πώς συγκρίνονται τα υποστρώματα SiC τύπου 3C-N με το παραδοσιακό 4H-SiC στην απόδοση;

Α: Το SiC τύπου 3C-N προσφέρει χαμηλότερη αντίσταση και καλύτερη απόδοση υψηλής συχνότητας (έως και 2.7×10⁷ cm/s ταχύτητα ηλεκτρονίων), ιδανικό για RF και συμπαγή ηλεκτρονικά ισχύος.

 

 

 

Ετικέτα: #Υπόστρωμα καρβιδίου του πυριτίου, #3C-N type SIC, #Υλικά ημιαγωγών, #3C-SiC Substrate, #Product Grade, #Επικοινωνίες 5G, #2inch/4inch/6inch/8inch/5×5 mm/10×10 mm, #MOS Grade, #4H-SiC Substrates

 

 
 

Στοιχεία επικοινωνίας
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Mr. Wang

Τηλ.:: +8615801942596

Στείλετε το ερώτημά σας απευθείας σε εμάς (0 / 3000)

Άλλα προϊόντα