Υλικό: | 99.999% Κρυστάλλινος σαφφείριος | Προσανατολισμός: | Εκτός Άξονα C προς Επίπεδο A 2° |
---|---|---|---|
Διάμετρος: | 2", 50,8 χιλιοστά. | Υποκλίνεσαι.: | ≤ 20μm |
Μέγεθος: | 2 ίντσες, 4 ίντσες, 6 ίντσες, 8 ίντσες | TTV: | <5> |
Πάχος: | 430 μm | ||
Επισημαίνω: | C-plane Sapphire Wafer (Σαφίρινη πλάκα),Al2O3 Ζαφείρινη πλάκα,Υπερ λεπτή ζαφείρινη βάρη |
2" Δίσκος Ζαφειριού Εκτός C-Axis προς A-plane2°,Al₂O₃,430µm Πάχος, DSP/SSP
Αυτό το δίσκος ζαφειριού 2 ιντσών διαθέτει εξαιρετικά ακριβή Εκτός C-Axis προς A-Plane 2° και 99.999% (5N) καθαρότητα, βελτιστοποιημένο για υψηλής απόδοσης επιταξιακή ανάπτυξη και εξειδικευμένες οπτοηλεκτρονικές εφαρμογές. Με πάχος 430µm και επιλογές για διπλής όψης στίλβωση (DSP) ή μονής όψης στίλβωση (SSP), ο δίσκος προσφέρει εξαιρετική ποιότητα επιφάνειας (Ra <0.3nm) και κρυσταλλογραφική συνέπεια, καθιστώντας τον ιδανικό για συσκευές βασισμένες σε GaN, συστήματα λέιζερ και υποστρώματα ποιότητας έρευνας. Ο ελεγχόμενος προσανατολισμός εκτός άξονα μειώνει τα ελαττώματα συσσώρευσης βημάτων κατά την επιταξία, ενώ η εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα εξασφαλίζει ελάχιστη υποβάθμιση της απόδοσης που προκαλείται από ακαθαρσίες σε ευαίσθητες εφαρμογές όπως η κβαντική οπτική και τα φίλτρα RF.
Βασικά Χαρακτηριστικά του Δίσκου Ζαφειριού 2''
Προσανατολισμός Ακριβείας Εκτός Κοπής:
Εκτός C-plane προς A-axis 2° , σχεδιασμένο για να ενισχύει την ομοιομορφία του επιταξιακού στρώματος και να μειώνει τα ελαττώματα στην ανάπτυξη GaN.
Εξαιρετικά Υψηλή Καθαρότητα:
99.999% (5N) Al₂O₃, με ίχνη ακαθαρσιών (Fe, Ti, Si) <5ppm, κρίσιμη για συσκευές υψηλής συχνότητας και χαμηλών απωλειών.
Ποιότητα Επιφάνειας Υπομικρομέτρων:
Επιλογές DSP/SSP:
DSP: Ra <0.3nm (και στις δύο πλευρές), ιδανικό για οπτικές και εφαρμογές λέιζερ.
SSP: Ra <0.5nm (μπροστινή πλευρά), οικονομικά αποδοτικό για επιταξία.
TTV <5µm για ομοιόμορφη εναπόθεση λεπτών φιλμ.
Εξαιρετικό Υλικό:
Θερμική Σταθερότητα: Σημείο τήξης ~2.050°C, κατάλληλο για διεργασίες MOCVD/MBE.
Οπτική Διαφάνεια: >90% μετάδοση (400nm–4.000nm).
Μηχανική Ανθεκτικότητα: Σκληρότητα 9 Mohs, ανθεκτικό σε χημική χάραξη.
Συνέπεια Ποιότητας Έρευνας:
Πυκνότητα Δυστοκίας <300 cm⁻², εξασφαλίζοντας υψηλή απόδοση για Ε&Α και πιλοτική παραγωγή.
Εφαρμογές
Επιταξία GaN:
LED/Δίοδοι Laser: Εκπομποί μπλε/UV με μειωμένες δυστοκίες νημάτων.
HEMTs: Τρανζίστορ υψηλής κινητικότητας ηλεκτρονίων για 5G και ραντάρ.
Οπτικά Εξαρτήματα:
Παράθυρα Laser: Χαμηλή απώλεια σκέδασης για λέιζερ CO₂ και UV.
Οδηγοί Κυμάτων: Δίσκοι DSP για ενσωματωμένη φωτονική.
Συσκευές Ακουστικών Κυμάτων:
Φίλτρα SAW/BAW: Ο προσανατολισμός εκτός κοπής βελτιώνει τη σταθερότητα συχνότητας.
Κβαντικές Τεχνολογίες:
Πηγές Μονοφωτονίων: Υποστρώματα υψηλής καθαρότητας για κρυστάλλους SPDC.
Βιομηχανικοί Αισθητήρες:
Αισθητήρες Πίεσης/Θερμοκρασίας: Χημικά αδρανή καλύμματα για σκληρά περιβάλλοντα.
Προδιαγραφές
Παράμετρος |
Τιμή |
---|---|
Διάμετρος | 50.8mm (2") ±0.1mm |
Πάχος | 430µm ±10µm |
Προσανατολισμός | εκτός C -Axis προς A plane 2° |
Καθαρότητα | 99.999% (5N Al₂O₃) |
TTV | <5µm |
Bow/Warp | <20µm |
Ερωτήσεις και Απαντήσεις
Ε1: Γιατί να επιλέξετε μια εκτός κοπής 2° αντί για το τυπικό C-plane;
Α1: Η εκτός κοπής 2° καταστέλλει τη συσσώρευση βημάτων κατά την επιταξία GaN, βελτιώνοντας την ομοιομορφία του στρώματος και μειώνοντας τα ελαττώματα σε LED και δίοδους λέιζερ υψηλής φωτεινότητας.
Ε2: Πώς η καθαρότητα 5N επηρεάζει την απόδοση της συσκευής RF;
Α2: Η καθαρότητα 99.999% ελαχιστοποιεί τις διηλεκτρικές απώλειες σε υψηλές συχνότητες, κρίσιμη για φίλτρα 5G και ενισχυτές χαμηλού θορύβου.
Ε3: Μπορούν οι δίσκοι DSP να χρησιμοποιηθούν για άμεση συγκόλληση;
Α3: Ναι. Η τραχύτητα DSP’s <0.3nm επιτρέπει τη συγκόλληση ατομικού επιπέδου για ετερογενή ενσωμάτωση (π.χ., ζαφείρι σε πυρίτιο).
Ε4: Ποιο είναι το πλεονέκτημα του πάχους 430µm;
Α4: Εξισορροπεί τη μηχανική αντοχή (για το χειρισμό) με τη θερμική αγωγιμότητα, βέλτιστη για ταχεία θερμική επεξεργασία.
Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Mr. Wang
Τηλ.:: +8615801942596