λεπτομέρειες για τα προϊόντα

Σπίτι ΠΡΟΪΟΝΤΑ

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC

Ονομασία μάρκας:	zmkj
Αριθμός μοντέλου:	un-doped 4h-ημι υψηλής αγνότητας
MOQ:	3PCS
τιμή:	by required
Χρόνος παράδοσης:	10-20days

Λεπτομέρειες

Περιγραφή προϊόντων

Λεπτομέρειες

Τόπος καταγωγής:

ΚΙΝΑ

υλικό:

κρύσταλλο καρβιδίου του πυριτίου

μέγεθος:

3inch ή 4inch

εφαρμογή:

οπτικός

ειδική αντίσταση:

>1E7

τύπος:

4h-ΗΜΙ

Πάχος:

0.5mm

επιφάνεια:

DSP

Προσανατολισμός:

0° από τον γ-άξονα

Συσκευασία λεπτομέρειες:

Συσκευασμένος σε μια κατηγορία 100 καθαρό περιβάλλον δωματίων, στις κασέτες των ενιαίων εμπορευματοκ

Δυνατότητα προσφοράς:

100pcs/months

Επισημαίνω:

ημι μόνωση SIC 0.5mm

Εξαγωνικό Xsemi που μονώνει το SIC

Γκοφρέτα καρβιδίου του πυριτίου SIC

Περιγραφή προϊόντων

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC

Carborundum γκοφρετών υποστρωμάτων κρυστάλλου καρβιδίου SIC του πυριτίου

ΥΛΙΚΕΣ ΙΔΙΟΤΗΤΕΣ ΚΑΡΒΙΔΙΟΥ ΤΟΥ ΠΥΡΙΤΙΟΥ

Όνομα προϊόντων:

Υπόστρωμα κρυστάλλου καρβιδίου του πυριτίου (SIC)

Περιγραφή προϊόντων:

2-6inch

Τεχνικές παράμετροι:

Δομή κυττάρων	Εξαγωνικός
Σταθερά δικτυωτού πλέγματος	α = 3,08 Å γ = 15,08 Å
Προτεραιότητες	ABCACB (6H)
Μέθοδος αύξησης	MOCVD
Κατεύθυνση	Άξονας αύξησης ή μερικά (0001) 3,5 °
Στίλβωση	Στίλβωση επιφάνειας Si
Bandgap	2.93 eV (έμμεσο)
Τύπος αγωγιμότητας	Ν ή seimi, υψηλή αγνότητα
Ειδική αντίσταση	0,076 ωμ-εκατ.
Permittivity	ε (11) = ε (22) = 9,66 ε (33) = 10,33
Θερμική αγωγιμότητα @ 300K	5 W/εκατ. Κ
Σκληρότητα	9.2 Mohs

Προδιαγραφές:

ο ν-τύπος ημιμονωτικό dia2 «x0.33mm, dia2» x0.43mm, dia2 ' x1mmt, 10x10mm, 10x5mm ν-τύπων 4H 6H ενιαίο ρίχνει ή το διπλάσιο ρίχνει, RA <10a>

Πρότυπα που συσκευάζουν:

καθαρό δωμάτιο 1000, καθαρή τσάντα 100 ή ενιαία συσκευασία κιβωτίων

Εφαρμογή του καρβιδίου του πυριτίου στη βιομηχανία συσκευών δύναμης

Νιτρίδιο GaN γαλλίου καρβιδίου SIC του πυριτίου Si πυριτίου μονάδων απόδοσης
Χάσμα ζωνών eV 1.12 3,26 3,41
Ηλεκτρικό πεδίο MV/cm διακοπής 0,23 2,2 3,3
Κινητικότητα cm^2/Vs ηλεκτρονίων 1400 950 1500
Ταχύτητα 10^7 cm/s κλίσης 1 2,7 2,5
Θερμική αγωγιμότητα W/cmK 1.5 3,8 1,3

Έναντι των συσκευών πυριτίου (Si), οι συσκευές δύναμης καρβιδίου του πυριτίου (SIC) μπορούν αποτελεσματικά να επιτύχουν την υψηλή αποδοτικότητα, μικρογράφηση και ελαφρύς των ηλεκτρονικών συστημάτων δύναμης. Η ενεργειακή απώλεια συσκευών δύναμης καρβιδίου του πυριτίου είναι μόνο 50% αυτή των συσκευών Si, η παραγωγή θερμότητας είναι μόνο 50% αυτή των συσκευών πυριτίου, και έχει μια υψηλότερη πυκνότητα ρεύματος. Στο ίδιο επίπεδο δύναμης, ο όγκος των ενοτήτων δύναμης καρβιδίου του πυριτίου είναι σημαντικά μικρότερος από αυτός των ενοτήτων δύναμης πυριτίου. Παίρνοντας την ευφυή ενότητα IPM δύναμης για παράδειγμα, χρησιμοποιώντας τις συσκευές δύναμης καρβιδίου του πυριτίου, ο όγκος ενότητας μπορεί να μειωθεί σε 1/3 έως το 2/3 των ενοτήτων δύναμης πυριτίου.

Υπάρχουν 3 τύποι διόδων δύναμης καρβιδίου του πυριτίου: Οι δίοδοι Schottky (SBD), οι δίοδοι ΚΑΡΦΙΤΣΏΝ και το εμπόδιο συνδέσεων ελέγχουν τις διόδους Schottky (JBS). Λόγω του εμποδίου Schottky, το SBD έχει ένα χαμηλότερο ύψος εμποδίων συνδέσεων, έτσι το SBD έχει το πλεονέκτημα της χαμηλής μπροστινής τάσης. Η εμφάνιση του SBD καρβιδίου του πυριτίου αύξησε τη σειρά εφαρμογής του SBD από 250V σε 1200V. Συγχρόνως, τα υψηλής θερμοκρασίας χαρακτηριστικά του είναι καλά, από τη θερμοκρασία δωματίου σε 175°C που περιορίζεται από το κοχύλι, οι αντίστροφες τρέχουσες μετά βίας αυξήσεις διαρροής. Στον τομέα εφαρμογής των διορθωτών επάνω από 3kV, η καρφίτσα καρβιδίου του πυριτίου και οι δίοδοι καρβιδίου JBS του πυριτίου έχουν προσελκύσει την προσοχή λόγω της υψηλότερης τάσης διακοπής, της γρηγορότερης ταχύτητας μετατροπής, του μικρότερου όγκου και του ελαφρυους τους από τους διορθωτές πυριτίου.

Το κρύσταλλο SIC είναι ένα σημαντικό ευρύς-bandgap-ευρέως υλικό ημιαγωγών. Λόγω της υψηλής θερμικής αγωγιμότητας, του υψηλού ποσοστού κλίσης ηλεκτρονίων, της υψηλής δύναμης τομέων διακοπής και των σταθερών σωματικών και χημικών ιδιοτήτων του, χρησιμοποιείται ευρέως σε υψηλής θερμοκρασίας, στις ηλεκτρονικές συσκευές υψηλής συχνότητας και υψηλής δύναμης. Υπάρχουν περισσότεροι από 200 τύποι κρυστάλλων SIC που έχουν ανακαλυφθεί μέχρι στιγμής. Μεταξύ τους, τα κρύσταλλα 4H- και 6H-SIC έχουν παρασχεθεί εμπορικά. Όλοι ανήκουν στην ομάδα σημείου 6mm και έχουν μια second-order μη γραμμική οπτική επίδραση. Τα ημιμονωτικά κρύσταλλα SIC είναι ορατά και μέσα. Η υπέρυθρη ζώνη έχει μια υψηλότερη μετάδοση. Επομένως, οι οπτικοηλεκτρονικές συσκευές βασισμένες στα κρύσταλλα SIC είναι πολύ κατάλληλες για εφαρμογή στα ακραία περιβάλλοντα όπως υψηλής θερμοκρασίας και η υψηλή πίεση. Το ημιμονωτικό κρύσταλλο 4H-SIC έχει αποδειχθεί ένας νέος τύπος του μέσος-υπέρυθρου μη γραμμικού οπτικού κρυστάλλου. Έναντι των συνήθως χρησιμοποιημένων μέσος-υπέρυθρων μη γραμμικών οπτικών κρυστάλλων, το κρύσταλλο SIC έχει ένα ευρύ χάσμα ζωνών (3.2eV) που οφείλεται στο κρύσταλλο. , Υψηλή θερμική αγωγιμότητα (490W/m·Κ) και μεγάλη ενέργεια δεσμών (5eV) μεταξύ του SIC, που κάνει το κρύσταλλο SIC να έχει ένα υψηλό κατώτατο όριο ζημίας λέιζερ. Επομένως, το ημιμονωτικό κρύσταλλο 4H-SIC ως μη γραμμικό κρύσταλλο μετατροπής συχνότητας έχει τα προφανή πλεονεκτήματα το υψηλής ισχύος μέσος-υπέρυθρο λέιζερ. Κατά συνέπεια, στον τομέα των υψηλής ισχύος λέιζερ, το κρύσταλλο SIC είναι ένα μη γραμμικό οπτικό κρύσταλλο με τις ευρείες προοπτικές εφαρμογής. Εντούτοις, η τρέχουσα έρευνα βάσισε στις μη γραμμικές ιδιότητες των κρυστάλλων SIC και οι σχετικές εφαρμογές δεν είναι ακόμα πλήρεις. Αυτή η εργασία παίρνει τις μη γραμμικές οπτικές ιδιότητες των κρυστάλλων 4H- και 6H-SIC ως κύριο ερευνητικό περιεχόμενο, και στοχεύει να λύσει μερικά βασικά προβλήματα των κρυστάλλων SIC από την άποψη των μη γραμμικών οπτικών ιδιοτήτων, ώστε να προωθηθεί η εφαρμογή των κρυστάλλων SIC στον τομέα της μη γραμμικής οπτικής. Μια σειρά σχετικής εργασίας έχει εκτελεσθεί θεωρητικά και πειραματικά. Τα κύρια ερευνητικά αποτελέσματα είναι τα ακόλουθα: 　　 Κατ' αρχάς, οι βασικές μη γραμμικές οπτικές ιδιότητες των κρυστάλλων SIC μελετώνται. Η μεταβλητή διάθλαση θερμοκρασίας των κρυστάλλων 4H- και 6H-SIC στις ορατές και μέσος-υπέρυθρες ζώνες (404.7nm~2325.4nm) εξετάστηκε, και η εξίσωση Sellmier του μεταβλητού δείκτη διάθλασης θερμοκρασίας εγκαταστάθηκε. Η ενιαία πρότυπη θεωρία ταλαντωτών χρησιμοποιήθηκε για να υπολογίσει τη διασπορά του θερμο-οπτικού συντελεστή. Μια θεωρητική εξήγηση δίνεται η επιρροή της θερμο-οπτικής επίδρασης στο ταίριασμα φάσης των κρυστάλλων 4H- και 6H-SIC μελετάται. Τα αποτελέσματα δείχνουν ότι το ταίριασμα φάσης των κρυστάλλων 4H-SIC δεν επηρεάζεται από τη θερμοκρασία, ενώ τα κρύσταλλα 6H-SIC δεν μπορούν ακόμα να επιτύχουν το ταίριασμα φάσης θερμοκρασίας. όρος. Επιπλέον, η συχνότητα που διπλασιάζει τον παράγοντα του ημιμονωτικού κρυστάλλου 4H-SIC εξετάστηκε με τη μέθοδο περιθωρίου κατασκευαστών.　　 Δεύτερον, η οπτικές παραγωγή παραμέτρου femtosecond και η απόδοση ενίσχυσης του κρυστάλλου 4H-SIC μελετώνται. Η φάση που ταιριάζουν με, το ταίριασμα ταχύτητας ομάδας, η καλύτερη μη-collinear γωνία και το καλύτερο μήκος κρυστάλλου του κρυστάλλου 4H-SIC που αντλούνται από το λέιζερ 800nm femtosecond αναλύονται θεωρητικά. Χρησιμοποίηση του λέιζερ femtosecond με ένα μήκος κύματος της παραγωγής 800nm από το Tj: Το λέιζερ σαπφείρου ως πηγή αντλιών, που χρησιμοποιεί τη δύο σταδίων οπτική παραμετρική τεχνολογία ενίσχυσης, που χρησιμοποιεί ένα 3.1mm παχύ ημιμονωτικό κρύσταλλο 4H-SIC ως μη γραμμικό οπτικό κρύσταλλο, κάτω από τη φάση 90° που ταιριάζει με, για πρώτη φορά, ένα μέσος-υπέρυθρο λέιζερ ένα κεντρικό μήκος κύματος 3750nm, μια ενιαία ενέργεια σφυγμού μέχρι 17μJ, και ένα πλάτος σφυγμού 70fs λήφθηκε πειραματικά. Το λέιζερ 532nm femtosecond χρησιμοποιείται ως φως αντλιών, και το κρύσταλλο SIC είναι 90° φάση-που ταιριάζουν με για να παραγάγει το φως σημάτων με ένα κεντρικό μήκος κύματος παραγωγής 603nm μέσω των οπτικών παραμέτρων. Τρίτον, η φασματική διευρύνοντας απόδοση του ημιμονωτικού κρυστάλλου 4H-SIC ως μη γραμμικό οπτικό μέσο μελετάται. Τα πειραματικά αποτελέσματα δείχνουν ότι το μισό-μέγιστο πλάτος του διευρυνμένου φάσματος αυξάνεται με το μήκος κρυστάλλου και το γεγονός πυκνότητας ισχύος λέιζερ στο κρύσταλλο. Η γραμμική αύξηση μπορεί να εξηγηθεί από την αρχή της διαμόρφωσης μόνος-φάσης, η οποία προκαλείται κυρίως από τη διαφορά του δείκτη διάθλασης του κρυστάλλου με την ένταση του συναφούς φωτός. Συγχρόνως, αναλύεται ότι στο χρονικό διάστημα femtosecond, ο μη γραμμικός δείκτης διάθλασης του κρυστάλλου SIC μπορεί να αποδοθεί κυρίως στα συνδεδεμένα ηλεκτρόνια στο κρύσταλλο και τα ελεύθερα ηλεκτρόνια στη ζώνη διεξαγωγής και η τεχνολογία ζ-ανίχνευσης χρησιμοποιείται για να μελετήσει προκαταρκτικά το κρύσταλλο SIC κάτω από το λέιζερ 532nm. Μη γραμμική απορρόφηση και μη γραμμική απόδοση δείκτη διάθλασης.

2. μέγεθος υποστρωμάτων των προτύπων

προδιαγραφή υποστρωμάτων καρβιδίου του πυριτίου 4 ίντσας διαμέτρων (SIC)
Βαθμός		Μηδέν βαθμός MPD	Βαθμός παραγωγής	Ερευνητικός βαθμός	Πλαστός βαθμός
Διάμετρος		76.2 mm±0.3 χιλ. ή 100±0.5mm
Πάχος		500±25um
Προσανατολισμός γκοφρετών		0° από τον άξονα (0001)
Πυκνότητα Micropipe		≤1 τ.εκ.	≤5 τ.εκ.	≤15 τ.εκ.	≤50 τ.εκ.
Ειδική αντίσταση	4h-ν	0.015~0.028 Ω•εκατ.
	6h-ν	0.02~0.1 Ω•εκατ.
	4/6h-Si	≥1E7 Ω·εκατ.
Αρχικοί επίπεδος και μήκος		{10-10} ±5.0°, 32,5 mm±2.0 χιλ.
Δευτεροβάθμιο επίπεδο μήκος		18.0mm±2.0 χιλ.
Δευτεροβάθμιος επίπεδος προσανατολισμός		Πρόσωπο πυριτίου - επάνω: 90° CW. από πρωταρχικό επίπεδο ±5.0°
Αποκλεισμός ακρών		3 χιλ.
TTV/Bow το /Warp		≤15μm/≤25μm/≤40μm
Τραχύτητα		Πολωνικό Ra≤1 NM, CMP Ra≤0.5 NM
Ρωγμές από το φως υψηλής έντασης		Κανένας		1 επιτρεμμένος, ≤2 χιλ.	Συσσωρευτικό μήκος ≤ 10mm, ενιαίο length≤2mm

Πιάτα δεκαεξαδικού από το φως υψηλής έντασης		Συσσωρευτική περιοχή ≤1%		Συσσωρευτική περιοχή ≤1%	Συσσωρευτική περιοχή ≤3%
Περιοχές Polytype από το φως υψηλής έντασης		Κανένας		Συσσωρευτική περιοχή ≤2%	Συσσωρευτική περιοχή ≤5%

Γκοφρέτα SIC & πλινθώματα 2-6inch και άλλο προσαρμοσμένο μέγεθος επίσης μπορεί να παρασχεθεί.

3.Products επίδειξη λεπτομέρειας

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC 0

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC 1

Παράδοση & συσκευασία

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC 3

FAQ

Q1. Είναι η επιχείρησή σας ένα εργοστάσιο ή εμπορική επιχείρηση;
Είμαστε το εργοστάσιο και μπορούμε επίσης να κάνουμε την εξαγωγή οι ίδιοι.
Q2.Is εσείς εργασία επιχείρησης μόνο με την επιχείρηση SIC;
ναι εντούτοις δεν αυξανόμαστε το κρύσταλλο SIC από μόνο.
Q3. Θα μπορούσατε να παρέχετε το δείγμα;
Ναι, μπορούμε να παρέχουμε το δείγμα σαπφείρου σύμφωνα με την απαίτηση του πελάτη
Q4. Έχετε οποιοδήποτε απόθεμα των γκοφρετών SIC;
κρατάμε συνήθως μερικές τυποποιημένες γκοφρέτες μεγέθους SIC από τις γκοφρέτες 2-6inch στο απόθεμα
Το Q5.Where είναι η επιχείρησή σας τοποθετημένη.
Η επιχείρησή μας που βρίσκεται στη Σαγγάη, Κίνα.
Q6. Πόσο καιρό θα πάρει για να πάρει τα προϊόντα.
Γενικά θα διαρκέσει 3~4 εβδομάδες στη διαδικασία. Είναι εξαρτάται από το και μέγεθος των προϊόντων.

Ετικέττες:

Γκοφρέτα νιτριδίων γαλλίου

Γκοφρέτα σαπφείρου

Υπόστρωμα SIC

Οπτικά παράθυρα σαπφείρου

Γκοφρέτα πυριτίου ολοκληρωμένου κυκλώματος

Συνθετική ράβδος σαπφείρου

Λιωμένο πιάτο χαλαζία

Μέρη σαπφείρου

Συνθετικός πολύτιμος λίθος

Εξοπλισμός ημιαγωγών

LiNbO3 γκοφρέτα

GaAs γκοφρέτα

Γκοφρέτα φωσφιδίων ίνδιου

κεραμικό υπόστρωμα

Περιτύλιγμα εργαστηρίων

Γκοφρέτα νιτριδίων γαλλίου

Γκοφρέτα σαπφείρου

Υπόστρωμα SIC

Οπτικά παράθυρα σαπφείρου

Γκοφρέτα πυριτίου ολοκληρωμένου κυκλώματος

Συνθετική ράβδος σαπφείρου

Λιωμένο πιάτο χαλαζία

Μέρη σαπφείρου

Συνθετικός πολύτιμος λίθος

Εξοπλισμός ημιαγωγών

LiNbO3 γκοφρέτα

GaAs γκοφρέτα

Γκοφρέτα φωσφιδίων ίνδιου

κεραμικό υπόστρωμα

Περιτύλιγμα εργαστηρίων

λεπτομέρειες για τα προϊόντα

πρωταρχικά 2» 3» 4» 6» 4h-ημι 4h-ν που μονώνουν την γκοφρέτα καρβιδίου SIC του πυριτίου υποστρωμάτων SIC

ημι μόνωση SIC 0.5mm

Εξαγωνικό Xsemi που μονώνει το SIC

Γκοφρέτα καρβιδίου του πυριτίου SIC